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國產X熒光光譜分析儀EDX4500H

簡要描述:

國產X熒光光譜分析儀EDX4500H是利用XRF檢測原理實現對各種元素成份進行快速、準確、無損分析。

該儀器的主要特征是利用智能真空系統,可對Si、P、S、Al、Mg等輕元素具有良好的激發效果,利用XRF技術可對高含量的Cr、Ni、Mo等重點關注的元素進行分析,在冶煉過程控制中起到了測試時間短,大大提高了檢測效率和工作效率的作用。

產品介紹

 

EDX 4500HX熒光光譜分析儀是利用XRF檢測原理實現對各種元素成份進行快速、準確、無損分析。

該儀器的主要特征是利用智能真空系統,可對Si、P、S、Al、Mg等輕元素具有良好的激發效果,利用XRF技術可對高含量的Cr、Ni、Mo等重點關注的元素進行分析,在冶煉過程控制中起到了測試時間短,大大提高了檢測效率和工作效率的作用。

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另外,在合金分析、全元素分析、有害元素檢測應用上也十分廣泛。X熒光光譜分析儀是屬于大型光學精密一起。以前我國主要依靠進口光譜分析儀,進口的光譜分析儀價格昂貴,耗費國家大量外匯。所以一機都在75年組織了光電式光譜分析儀會戰,從此我國可以自己大量生產大型X熒光光譜分析儀。X熒光光譜分析儀結構雖然很復雜,主要由下面四部分組成:光源、分光器(又稱單色器)、接收器(又稱探測器)、輸出裝置。為了更好的利用儀器和得到滿意的測試結果,必須對儀器各主要部分的作用和原理有所了解。

 

產品優點

 

1.采樣方式靈活,對于稀有和貴重金屬的檢測和分析可以節約取樣帶來的損耗。

2.測試速率高,可設定多通道瞬間多點采集,并通過計算器實時輸出。

3.對于一些機械零件可以做到無損檢測,而不破壞樣品,便于進行無損檢測。

4.分析速度較快,比較適用做爐前分析或現場分析,從而達到快速檢測。

5.分析結果的準確性是建立在化學分析標樣的基礎上。

光譜分析儀的缺點

1.對于非金屬和界于金屬和非金屬之間的元素很難做到準確檢測。

2.不是原始方法,不能作為仲裁分析方法,檢測結果不能做為國家認證依據。

3.受各企業產品相對壟斷的因素,購買和維護成本都比較高,性價比較低。

4.需要大量代表性樣品進行化學分析建模,對于小批量樣品檢測顯然不切實際。

5.模型需要不斷更新,在儀器發生變化或者標準樣品發生變化時,模型也要變化。

6.建模成本很高,測試成本也就比較大了,當然對于大量樣品檢測時,測試成本會下降。

7.易受光學系統參數等外部或內部因素影響,經常出現曲線非線性問題,對檢測結果的準確度影響較大。

 

技術參數

 

產品型號:EDX 4500H

產品名稱:X熒光光譜分析儀

測量元素范圍:從鈉(Na)到鈾(U)

元素含量分析范圍: ppm—99.99%(不同元素,分析范圍不同)

同時分析元素:一次性可測幾十種元素

測量時間:30秒-200秒

探測器能量分辨率為:145±5eV

管壓:5KV-50KV

管流:50μA-1000μA

測量對象狀態:粉末、固體、液體

輸入電壓:AC 110V/220V

環境溫度:15℃-30℃

環境濕度:35%-70%

樣品腔體積:320mm×100mm

外形尺寸:660mm×510mm×350mm

重量:65Kg

 

標準配置

 

高效超薄窗X光管

SDD硅漂移探測器

數字多道技術

光路增強系統

高信噪比電子線路單元

內置高清晰攝像頭

自動切換型準直器和濾光片

自動穩譜裝置

三重安全保護模式

可靠的整體鋼架結構

90mm×70mm的狀態顯示液晶屏

真空泵

 

國產X熒光光譜分析儀EDX4500H性能特點

 

高效超薄窗X光管,指標達到較高水平

新的數字多道技術,讓測試更快,計數率達到100000CPS,精度更高。在合金檢測中效果更好

SDD硅漂移探測器,良好的能量線性、能量分辨率和能譜特性,較高的峰背比

低能X射線激發待測元素,對Si、P等輕元素激發效果好

智能抽真空系統,屏蔽空氣的影響,大幅擴展測試的范圍

自動穩譜裝置保證了儀器工作的*性

高信噪比的電子線路單元

針對不同樣品自動切換準直器和濾光片,免去手工操作帶來的繁瑣

解譜技術使譜峰分解,使被測元素的測試結果具有相等的分析精度

多參數線性回歸方法,使元素間的吸收、增強效應得到明顯的抑制

內置高清晰攝像頭

液晶屏顯示讓儀器的重要參數(管壓、管流、真空度)一目了然

 

國產X熒光光譜分析儀EDX4500H應用領域

 

X熒光光譜分析儀合金檢測、全元素分析、有害元素檢測(RoHS、鹵素)

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